减薄设备方面,公司基于自身对CMP设备领域的深耕和技术积累,开发出Versatile-GP300减薄抛光一体机,主要适用于先进封装领域和前道晶圆制造的背面减薄工艺,以满足3D IC对超精密磨削、CMP及清洗的一体化工艺需求,在客户端验证顺利。...... 晶圆再生业务方面,公司以自有CMP设备和清洗设备为依托,针对下游客户生产线控片、挡片的晶圆再生需求,积极拓展晶圆再生业务,目前已成为具备Fab装备及工艺技术服务的晶圆再生专业代工厂。
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